Gas Etsa Kering Difluorometana

Etsa kering, juga dikenal sebagai etsa plasma, menggunakan plasma berenergi tinggi untuk menghilangkan material dari permukaan wafer. Plasma terdiri dari ion-ion yang reaktif secara kimia dan radikal bebas yang membombardir wafer, memutus ikatan molekul bahan dan menyebabkannya tergores. Teknik etsa kering meliputi etsa ion reaktif (RIE), etsa plasma, dan etsa ion. Pengetsaan kering memungkinkan kontrol proses pengetsaan yang lebih baik, memberikan resolusi yang lebih tinggi, dan mampu mengetsa struktur yang lebih kompleks

R32, juga dikenal sebagai Difluoromethane, adalah gas etsa yang sangat efektif yang banyak digunakan dalam proses etsa plasma dalam industri elektronik. Selain itu, ini merupakan pendingin luar biasa yang tidak menguras lapisan ozon dan banyak digunakan dalam peralatan pendingin seperti AC, lemari es, dan AC mobil. Penggunaan cairan pendingin ramah lingkungan ini tidak hanya memastikan bahwa kami melakukan bagian kami terhadap lingkungan namun juga menjamin bahwa kami dapat mempertahankan suhu optimal untuk perangkat kami sambil beroperasi dengan efisiensi maksimum. R32 benar-benar menghadirkan solusi luar biasa yang memenuhi beragam kebutuhan industri saat ini.