Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. adalah salah satu produsen dan pemasok hfe 7200 cas 163702 06 5 terkemuka untuk pembersihan semikonduktor di Cina. Jika Anda mencari hfe 7200 cas 163702 06 5 untuk pembersihan semikonduktor, silakan bebas membeli produk berkualitas kami dengan harga bersaing dari pabrik kami. Hubungi kami untuk penawaran.

HFE 7200 Cas 163702 06 5 untuk Pembersihan Semikonduktor Telp:+86-592-5803997

Sebagai-pelarut berfluorinasi generasi berikutnya, HFE 7200 menetapkan tolok ukur pembersihan presisi di lingkungan yang keandalan mutlaknya tidak-dapat dinegosiasikan. Didesain dengan kemurnian ultra-tinggi, kompatibilitas material yang luar biasa, dan penguapan bebas residu-yang cepat, produk ini mengatasi tantangan pembersihan paling berat di bidang manufaktur semikonduktor, optik, elektronik, dan instrumentasi medis.

Pembersihan Semikonduktor: Mulai dari menghilangkan residu etsa-berskala nano pada substrat wafer hingga membersihkan lensa optik sensitif dan endoskopi medis dengan hati-hati, HFE 7200 memberikan kinerja yang konsisten dan berulang tanpa mengorbankan integritas media. Sifatnya yang tidak-mudah terbakar dan toksisitasnya rendah menjadikannya pilihan yang aman untuk sistem penghilang lemak uap otomatis dan proses pembersihan manual, sementara profil lingkungannya sejalan dengan arahan keberlanjutan global.

Jika pelarut konvensional tidak mencukupi, HFE 7200 unggul dalam memastikan komponen penting memenuhi standar kebersihan, fungsionalitas, dan umur panjang tertinggi.

Aplikasi Utama HFE 7200 Telp:+86-592-5803997

1. Pembersihan Basah Peralatan Etsa Semikonduktor; Pembersihan Komponen Liquid Crystal dan Hard Disk
HFE 7200 banyak digunakan dalam proses pembersihan basah tingkat lanjut untuk fabrikasi semikonduktor, khususnya dalam penghilangan residu pasca-etch dari wafer dan komponen ruang. Kemurniannya yang luar biasa, tegangan permukaan yang rendah, dan penguapan yang cepat memastikan pembersihan menyeluruh tanpa meninggalkan kontaminan ionik atau partikulat. Dalam industri tampilan dan penyimpanan data, produk ini sama efektifnya untuk membersihkan panel layar kristal cair (LCD) yang halus dan komponen hard disk drive (HDD), menjaga kejernihan optik dan presisi mekanis sekaligus menghilangkan minyak, partikel, dan residu organik.

2. Pembersihan Peralatan Laser dan Pembersihan Lensa Optik
Karena sifatnya yang non-korosif dan-bebas residu, HFE 7200 ideal untuk memelihara sistem optik-performa tinggi. Produk ini dengan aman menghilangkan debu, sidik jari, dan lapisan dari optik laser, lensa, cermin, dan sensor tanpa merusak lapisan anti-reflektif atau khusus. Sifatnya yang cepat-pengeringan mencegah goresan, memastikan transmisi cahaya optimal dan akurasi sistem dalam aplikasi penting seperti litografi, pemotongan laser, pencitraan medis, dan instrumentasi ilmiah.

3. Pembersihan Komponen Elektronik Presisi
HFE 7200 berfungsi sebagai pelarut yang sangat andal untuk menghilangkan lemak dan menghilangkan fluks dari rakitan elektronik sensitif, termasuk papan sirkuit cetak (PCB), konektor, relai, dan sistem mikroelektromekanis (MEMS). Toksisitasnya yang rendah dan kompatibilitas material yang unggul memungkinkan penggunaan yang aman pada plastik, elastomer, dan logam, mencegah pembengkakan, retak, atau degradasi listrik sekaligus memastikan keandalan dielektrik yang tinggi.

4. Bidang Penerbangan dan Medis (Pembersihan Lensa Medis, Bahan Sensitif Khusus)
Dalam penerbangan, HFE 7200 digunakan untuk membersihkan avionik, sistem navigasi, dan material komposit sensitif tanpa mempengaruhi sifat struktural atau listriknya. Dalam pembuatan dan pemeliharaan perangkat medis, ini diterapkan untuk membersihkan lensa endoskopi, peralatan bedah, sensor diagnostik, dan komponen biokompatibel lainnya, yang mengutamakan sterilitas,-non-reaktivitas, dan tidak ada residu.

5. Aplikasi Kecantikan dan Kosmetik (Makeup/Makeup Remover, Masker Wajah)
Dalam formulasi kosmetik, HFE 7200 bertindak sebagai pembawa atau pelarut yang mudah menguap dalam produk seperti riasan-yang tahan lama, penghapus riasan tahan air, dan masker lembaran. Karakteristiknya yang lembut,-tidak menyebabkan iritasi, dan penguapan yang cepat membantu menghantarkan bahan aktif secara merata tanpa meninggalkan residu berminyak, sehingga meningkatkan pengalaman pengguna dan stabilitas produk.

6. Bahan Pembersih dan Pembilasan untuk Penghilang Lemak Uap
HFE 7200 adalah pelarut pilihan dalam sistem penghilang lemak uap loop tertutup untuk menghilangkan minyak, gemuk, dan lilin dari bagian logam, keramik, dan polimer. Titik didihnya yang rendah dan stabilitasnya yang tinggi memungkinkan kondensasi dan pemulihan yang efisien, meminimalkan konsumsi pelarut dan dampak terhadap lingkungan sekaligus mencapai kebersihan-tingkat industri.

7. Pembawa Pelumas
Sebagai cairan pembawa dalam pelumas khusus dan senyawa-anti kejang, HFE 7200 memfasilitasi penerapan partikel pelumas atau aditif secara merata pada perangkat mekanis yang kompleks. Ini menguap dengan cepat setelah aplikasi, meninggalkan lapisan pelumas yang seragam dan tipis tanpa menarik debu atau mengganggu toleransi.

8. Pelarut Khusus, Media Dispersi, Media Reaksi, dan Pelarut Ekstraksi
HFE 7200 digunakan dalam penelitian dan pengembangan serta proses kimia bernilai tinggi sebagai media inert untuk mendispersikan bahan nano, melakukan reaksi kimia terkontrol, atau mengekstraksi senyawa sensitif. Stabilitas kimianya, non-polaritasnya, dan reaktivitasnya yang rendah membuatnya cocok untuk menangani material canggih, obat-obatan, dan bahan kimia halus.

9. Pengganti CFC, HCFC, HFC, dan PFC
Sebagai alternatif yang bertanggung jawab terhadap lingkungan terhadap pelarut yang-merusak ozon dan-berpotensi-pemanasan global-tinggi (GWP), HFE 7200 menawarkan kinerja yang sebanding atau unggul dengan potensi penipisan ozon (ODP) nol dan GWP yang jauh lebih rendah. Hal ini mendukung kepatuhan terhadap peraturan lingkungan hidup internasional seperti Protokol Montreal dan Kyoto.

10. Cairan Pemindah Panas
HFE 7200 digunakan dalam sistem pendingin-fase tunggal atau dua-fase untuk elektronik, sistem laser, dan peralatan laboratorium. Stabilitas termal, sifat tidak-mudah terbakar, dan dielektriknya memungkinkan pembuangan panas yang efisien dan aman dalam aplikasi pendinginan-kontak langsung atau tidak langsung, termasuk pendinginan imersi untuk komputasi-performa tinggi dan elektronika daya.

hFE 7200 Lembar data Telp:+86-592-5803997

Penampilan dan Properti	Cairan transparan tidak berwarna	Bau	Tidak berbau
Titik didih pada 1 atm	156-160 derajat	Titik beku	-84,9 derajat

kepadatan cairan (25 derajat)	1,810 gram·mL^-1	Titik nyala	TIDAK

kerugian dielektrik (10 MHz)	0.00418	resistivitas volume	Lebih besar dari atau sama dengan 1,579×1011 Ω·mm
indeks bias	1.308	koefisien muai volume (20-80 derajat)	5.420×10^-3

viskositas kinematik (25 derajat)	3,05 mm2·s^-1	Panas Spesifik	1.151 J·g^-1·K^-1

koefisien konduktivitas panas (25 derajat)	0.0656W∙m-1∙K^-1	ketegangan permukaan	17,51 mn·m^-1

kekuatan dielektrik (2,5 mm)	＞50,4 kV	konstanta dielektrik (1 MHz)	4.75

ODP	0	GWP	180